简介： 在真空处理室中,提供用于监测何时足以由静电夹盘释放衬底以便允许通过传送机构诸如销提升器安全移动的监测设备。该监测设备包括以衬底的谐振频率输出声波的声学发生器,并且当由衬底吸收声波时检测释放状态。在晶片的处理诸如等离子体蚀刻或化学气相淀积期间使用该设备。