简介： 本实用新型公开一种便于调节化学机械抛光装置，包括底盘，所述底盘底端的外侧壁上开设有环型槽，所述环型槽的内部滑动连接有固定环，本实用新型所达到的有益效果是：本实用新型通过设置复位机构、卡位机构、防护结构和增压机构，针对不同晶圆表面进行抛光需要调节底盘与抛光头之间的压力时，能够调节气囊的膨胀程度，调节压覆在底盘上的抛光头与底盘之间的压力，能够调节底盘的上表面与晶圆之间的而压力，避免在对不同晶圆进行抛光时影响对晶圆的表面的抛光效果，通过设置卡位机构、复位机构和防护机构，在需要对底盘进行检修或者更换时，进行拆卸的操作简单，更换结束后，进行安装的操作简单，便于对底盘进行检修和更换，使用方便。