简介： 本发明公开了一种10-羟基喜树碱的化学半合成工艺，它以20(s)-喜树碱为原料，经过优化的N-氧化和光化学重排反应,产物经硅胶柱层析，即得到高纯度的10-羟基喜树碱。本工艺操作条件简便，反应试剂可回收利用，生产成本低，0-羟基喜树碱产品收率高，产物易分离，纯度达98.5％，符合国家药检标准。