简介： 单片三腔式红外加热超高真空化学气相淀积外延系统属于超大规模集成电路薄膜外延生长和超晶格薄膜材料生长技术领域,除了高真空机组、气路装置、尾气处理装置、测温控温装置、加热电源、计算机控制装置以外,其特征在于,它含有:反应腔;用于取放样片的预装片腔,该腔的前端经一个高真空阀门与装片腔隔离,在该腔后端有一个磁传动样片片架,以便在该高真空阀门打开时把样片片架上所预装的样片从预装片腔传送到装片腔,该预装片腔上端是一个具有高真空密封圈密封的翻盖门;装片腔:它含有气缸驱动的样片升降台,取放样片机械手以及与之相连的磁传动杆。本发明具有样片外延薄膜均匀性好、质量高和外延生产效率高的优点。