简介： 本发明公开了一种电化学评价取向硅钢氧化层的装置及方法，包括电解池、设于电解池一侧的磁铁组、设于电解池上的饱和甘汞电极和铂电极以及与电解池连接的电化学工作站；磁铁组包括固定在电解池上的固定磁铁和与固定磁铁磁性连接的移动磁铁，移动磁铁设于电解池侧面的出口上；参比电极设于磁铁组与辅助电极之间；参比电极和辅助电极与电化学工作站连接。本发明的评价方法通过电化学测量取向硅钢试样的电位‑时间曲线，计算出取向硅钢氧化层各分层的溶解电量，实现了对取向硅钢氧化层各分层的快速、准确测定，可以区分出Mg2SiO4玻璃膜底层、SiN层、SiO2层、FeO及铁橄榄石层等分层性能，为取向硅钢生产工艺参数的控制提供指导。