简介:
本实用新型涉及一种液态化学品温控供应系统,包括至少一个化学品储存室和至少一个反应腔,每个化学品储存室均对应设置有化学槽循环加热管路,所述化学槽循环加热管路输出端通过第一传输管路与各所述反应腔连通;各所述第一传输管路中均设置有第一加热器和第一温度侦测计,且所述第一温度侦测计设置于所述第一传输管路与所述反应腔相连接的一端的端口处;实现液态化学品到达各反应腔时的温度与从化学槽循环加热管路输出时的温度一致。本实用新型还涉及一种晶圆刻蚀清洗设备,其能有效提高产品的工艺稳定性。
本实用新型涉及一种液态化学品温控供应系统,包括至少一个化学品储存室和至少一个反应腔,每个化学品储存室均对应设置有化学槽循环加热管路,所述化学槽循环加热管路输出端通过第一传输管路与各所述反应腔连通;各所述第一传输管路中均设置有第一加热器和第一温度侦测计,且所述第一温度侦测计设置于所述第一传输管路与所述反应腔相连接的一端的端口处;实现液态化学品到达各反应腔时的温度与从化学槽循环加热管路输出时的温度一致。本实用新型还涉及一种晶圆刻蚀清洗设备,其能有效提高产品的工艺稳定性。