简介： 本发明公开了一种实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统，包括第一温度探测器、第二温度探测器、第三温度探测器、保温套、温度控制器和主控制器，第一温度探测器和第二温度探测器分别设于抛光液存放容器内和抛光液存放容器的输出端，保温套包裹在抛光液存放容器输出端连接的输出管道的外表面，第三温度探测器设在研磨垫附近，温度控制器设在抛光液存放容器供给端，第一温度探测器、第二温度探测器、第三温度探测器和温度控制器分别与主控制器连接。本发明实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统实现了晶圆在化学机械研磨过程中的温度控制，提高了晶圆的产出率和稳定性。