简介： 本发明涉及一种化学气相淀积反应腔中漏率的监控方法,将自动测漏步骤加入到化学气相淀积跑片过程的氢氟酸清洗步骤中。采用该方法进行化学气相淀积反应腔中漏率的监测,可以做到实时监测,减少在机台异常情况下制造产品的状况发生,一旦有问题可以报警并及时解决;并且将漏率监测植入到正常的产品制造流程之中,对机台的可服务时间没有影响;同时,采用此方法,在机台做完漏率监测步骤之后可以直接执行后续的开启等离子体等步骤,可以避免手动测漏,机台反应腔降温而死机。