简介： 本实用新型实施例公开了一种化学液浓度控制系统和清洗装置，该化学液浓度控制系统包括储液模块，储液模块用于储存化学液，化学液中溶有至少一种化学品；至少一条化学品输送管路，用于向储液模块输送化学品，化学品输送管路上设置有流量计；浓度测量模块，用于测量化学液的浓度；流量控制模块，流量控制模块分别与流量计、浓度测量模块连接，用于根据流量计测得的当前流量数据、浓度测量模块测得的当前浓度数据和目标浓度控制化学品输送管路的流量。本实用新型实施例通过流量控制模块根据当前流量数据、当前浓度数据和目标浓度控制化学品输送管路的流量以使清洗晶片的化学液始终维持在目标浓度，进而保证对晶片完全且适度清洗。