简介： 本实用新型公开了一种晶圆用化学刻蚀设备，包括刻蚀槽，刻蚀槽内放置有晶圆放置架，晶圆放置架上排列有晶圆，晶圆放置架包括相对竖直设置的主支架，滑动设置在主支架底部的支撑拉板以及横向设置在主支架中部的辅助支架，辅助支架上铰接有多个用于定位晶圆侧边的槽块，刻蚀槽底部与中转槽体通过进液管道以及出液管道循环连接，进液管道横向设置且其上设有气泡检测传感器，所述出液管道上设有循环泵。刻蚀均匀性好，可以防止二次刻蚀。