简介： 本公开涉及化学机械抛光系统及使用方法。一种调节抛光衬垫的方法包括从第一传感器接收关于所述抛光衬垫的粗糙度的信息。该方法还包括使用调节器来调节所述抛光衬垫。该方法还包括在所述调节之后检测所述抛光衬垫的粗糙度。该方法还包括响应于所检测到的所述抛光衬垫的粗糙度在阈值粗糙度范围之外，重复所述调节。