简介： 本实用新型涉及化学合成领域，尤其涉及一种化学合成装置。包括反应釜、温度控制系统和压力控制系统。温度控制系统包括加热装置、冷却装置、温度显示装置，冷却装置包括有其内部通入冷却剂的冷却管道，所述温度显示装置包括有温度检测机构和显示机构；压力控制系统包括真空泵、抽真空口、排气口和压力显示装置，所述排气口和所述抽真空口位于反应釜的顶部，所述真空泵通过所述抽真空口与所述反应釜气体连通。本实用新型能够快速提高或降低反应温度，精确控制化学合成反应产物，使所需反应产物得率提高。