简介:
本发明是关于一种等离子体化学气相沉积系统。该沉积系统包括等离子体沉积装置,该等离子体沉积装置包括等离子体炬和沉积室。该沉积系统还包括:尾气循环装置、新鲜气体供给装置和在线监控装置,该尾气循环装置一端连接于沉积室的排气口,另一端连接于等离子体炬的进气口;该新鲜气体供给装置,连接于等离子体炬的进气口;该在线监控装置用于实时检测气体组分、温度、沉积室压力及沉积基体温度。本发明还提出了一种等离子体化学气相沉积方法。本发明方法将等离子体化学气相沉积系统排放的气体经简单处理后进行气体循环使用,克服现有技术气体消耗较大的问题,大大降低气体成本,同时保证沉积系统的稳定性。
本发明是关于一种等离子体化学气相沉积系统。该沉积系统包括等离子体沉积装置,该等离子体沉积装置包括等离子体炬和沉积室。该沉积系统还包括:尾气循环装置、新鲜气体供给装置和在线监控装置,该尾气循环装置一端连接于沉积室的排气口,另一端连接于等离子体炬的进气口;该新鲜气体供给装置,连接于等离子体炬的进气口;该在线监控装置用于实时检测气体组分、温度、沉积室压力及沉积基体温度。本发明还提出了一种等离子体化学气相沉积方法。本发明方法将等离子体化学气相沉积系统排放的气体经简单处理后进行气体循环使用,克服现有技术气体消耗较大的问题,大大降低气体成本,同时保证沉积系统的稳定性。