简介:
本发明提供了一种阳极膜修复方法、阳极结构及化学气相沉淀设备。该阳极膜修复方法,包括以下步骤:S1、标记出阳极膜上产生电弧的待修补区域;S2、对所述待修补区域进行清洗;S3、对清洗后的所述待修补区域涂布后补保护膜层以形成优化区域;S4、对所述优化区域进行表面处理,以使得该优化区域平整;S5、对表面处理后的优化区域进行阻抗检测;S6、若阻抗检测不通过,则转至步骤S3;S7、若阻抗检测通过,则修复结束。本发明通过采用后补保护膜层涂布到电弧产生的区域可以对阳极结构进行修复,并且可以降低成本。
本发明提供了一种阳极膜修复方法、阳极结构及化学气相沉淀设备。该阳极膜修复方法,包括以下步骤:S1、标记出阳极膜上产生电弧的待修补区域;S2、对所述待修补区域进行清洗;S3、对清洗后的所述待修补区域涂布后补保护膜层以形成优化区域;S4、对所述优化区域进行表面处理,以使得该优化区域平整;S5、对表面处理后的优化区域进行阻抗检测;S6、若阻抗检测不通过,则转至步骤S3;S7、若阻抗检测通过,则修复结束。本发明通过采用后补保护膜层涂布到电弧产生的区域可以对阳极结构进行修复,并且可以降低成本。