简介： 本实用新型公开了一种晶圆缓存装置和化学机械抛光系统，所述晶圆缓存装置包括支撑架和检测组件，所述支撑架用于水平支撑晶圆，所述检测组件设置于所述支撑架的外周侧；所述检测组件包括信号收发部、反射部和遮光板，所述遮光板罩设于所述反射部的侧部，其上设置有透光孔，所述信号收发部输出的光信号朝向所述反射部发射，光信号经由所述透光孔入射至所述反射部，再自所述反射部经由所述透光孔发射至所述信号收发部；所述检测组件根据所述信号收发部的接收的光信号判定所述支撑架是否放置晶圆。