简介： 一种化学机械研磨设备，所述化学机械研磨设备包括：研磨盘，用于固定研磨垫；研磨头，位于所述研磨盘上方，用于固定晶圆；传感器，固定于所述研磨头外壁上，且所述传感器的检测窗口朝向所述研磨盘；喷气单元，固定设置于所述研磨盘一侧，用于向所述传感器喷气。所述化学机械研磨设备的滑片侦测效果提高。