简介： 本公开实施例提供一种用于化学机械研磨系统的平台。上述平台包括在平台之中的一或多个凹部，以安置用于研磨/平坦化工艺的各种构件。平台包括第一凹部以及第二凹部。第一凹部位于第二凹部之下。终点检测器放置在第一凹部中，且检测器盖可被放置在第二凹部中。密封装置被提供在终点检测器与检测器盖之间的空间，以防止任何外部或外来的材料接触终点检测器。拴件被用以将检测器盖拴至平台，也提供附加的防护以防止外来的材料接触被容纳在凹部的构件。