简介： 本发明提供一种化学机械抛光设备及其防碰撞方法，化学机械抛光设备包括：工作台、抛光垫、第一研磨装置、第二研磨装置、防碰撞传感器以及运动控制器，第一研磨装置包括第一摆动旋转机构、第一摆臂和第一研磨头，第一摆动旋转机构具有第一摆动电机；第二研磨装置包括第二摆动旋转机构、第二摆臂、第二研磨头，第二摆动旋转机构具有第一摆动电机；防碰撞传感器用于检测第一研磨头与第二研磨头之间的距离；运动控制器与防碰撞传感器通信连接，能够在防碰撞传感器检测到第一研磨头与第二研磨头之间的距离小于等于第一预设值时，控制第一摆动电机和第二摆动电机停止运作。