简介:
本发明提供了一种多层化学机械抛光垫,其包括:抛光层,所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域;多孔子垫层,该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域;以及广谱终点检测窗口块体;其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域;其中,所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口;其中,所述扩孔开口开在所述抛光表面上,使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分;并且所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。
本发明提供了一种多层化学机械抛光垫,其包括:抛光层,所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域;多孔子垫层,该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域;以及广谱终点检测窗口块体;其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域;其中,所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口;其中,所述扩孔开口开在所述抛光表面上,使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分;并且所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。