简介： 本实用新型公开一种化学机械抛光机台，用于在线检测抛光垫下方气泡，该化学机械抛光机台包括：基座，用于粘贴一抛光垫；调节盘，用于研磨抛光垫，所述调节盘耦合一垫高度感应装置，以监测调节盘的高度变化，当调节盘的高度变化超过一预定值，将抛光垫从基座上剥离，再另粘贴一抛光垫。其中在线侦测抛光垫下方气泡的方法是：将抛光垫粘贴在该基座上，进行抛光垫磨合，利用调节盘研磨抛光垫，在抛光垫磨合过程中，以垫高度感应装置监测调节盘的高度变化，当调节盘的高度变化超过一预定值，将抛光垫从基座上剥离，再另粘贴一抛光垫，如此达到在线自动检测抛光垫下方气泡，以提高效率及可靠性。