简介： 本发明提供了一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置及方法，该装置包括反应单元、碳源进给单元和真空检控单元；其中，所述反应单元用于进行化学气相沉积反应，所述碳源进给单元用于为所述反应单元提供气态碳源，所述真空检控单元用于控制和检测所述反应单元的真空度；所述碳源进给单元包括雾化器和汽化器。本发明一实施方式的用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置，通过设计结构简单的碳源进给器，替代传统的注射泵法、鼓泡法和加热法，使得碳源的控制更加精确稳定，且降低了生产成本。