简介： 本实用新型提供了化学机械抛光设备用抛光台温度控制装置,涉及化学机械抛光设备上用的抛光台温度控制装置技术领域。包括抛光台的温度检测部分,与流体循环式管道相连的换热器、泵和减压阀,流体管道中设有温度变送器、流量变送器和流量调节阀,抛光台温度检测部分、流量变送器、温度变送器分别通过抛光台温度采集模块、管道流量采集模块、管道温度采集模块和主机或其它控制设备连接,主机或其它控制设备通过流量控制器和流量调节阀连接,主机或其它控制设备通过温度控制器和换热器连接。采用此装置可使抛光台较快速稳定地达到预设温度,控制化学反应的速度,得到均匀的抛光去除率,提高抛光质量。特别适用于半导体晶圆化学机械抛光设备上。