简介： 本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，所述化学机械抛光系统包括：前端模块，所述前端模块用于存储和/或检测晶圆；多个抛光单元，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；抛光机械手，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；后清洗单元，所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为清洗时晶圆纵置；中转机械手，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。本实用新型的化学机械抛光系统，生产效率高，工艺流程更加灵活，清洗效果更好，且后清洗单元的体积小，结构紧凑。