简介： 提出了一种化学机械研磨去除率计算的方法，包括：确定研磨去除率计算公式MRR＝kPV；分析影响研磨去除率的因素，得到影响研磨去除率所述因素的函数方程；将所述因素的函数方程代入MRR＝kPV中，得到研磨去除率的具体计算公式，根据所述具体计算公式计算研磨去除率MRR。此外，还提出了一种化学机械研磨去除率计算的设备。本发明提出的上述方案，通过分析影响研磨去除率的因素，综合考虑晶圆、粒子、研磨垫及研磨液四体相互作用关系，深刻揭示多体间作用规律，能更加客观真实地描述化学机械研磨的工艺实际，对CMP的机理分析，版图设计，以及大生产线工艺研发具有积极指导作用。