简介： 本实用新型公开一种半导体清洗机化学品浓度控制系统，包括化学清洗池、纯水池、化学品池、废水池和化学浓度检测计，其中，化学浓度检测计安装在化学清洗池内；所述纯水池、化学品池和废水池均通过管路与化学清洗池连通，其中，废水池通过管路与化学清洗池底部连通；所述纯水池与化学清洗池之间的管路上连接有第一流量计和第一电磁阀；所述化学品池与化学清洗池之间的管路上连接有第二流量计和第二电磁阀；所述废水池与化学清洗池之间的管路上连接有第三流量计和第三电磁阀；所述流量计、电磁阀和化学浓度检测计分别与控制器电连接。本实用新型能够始终控制化学清洗池内的化学品浓度在要求的范围内，保证清洗后硅片的质量。