简介： 本发明公开了一种化学气相沉积过程中反应气氛的监控系统，包括化学气相沉积炉，化学气相沉积炉具有反应室，反应室顶部与真空管道连接、底部与Zn原料坩埚连接，真空管道通过采样泵与样品室连接，样品室还与稀释管道、真空泵以及气体分析仪连接，真空泵一端还与真空管道连接，气体分析仪、采样泵、真空泵均与控制器连接，控制器与计算机连接；还公开一种监控方法，通过检测反应残余气体中H2S或H2Se的浓度，进而改变通入Zn坩埚原料载气的流量。本发明能够保证长时间沉积生产过程中反应空间内原料配比的一致性，且安全可靠，从而生产出高质量的光学材料。