简介： 本发明属于提供一种表面等离子体共振图像分析金膜点阵列的制备方法。采用软件设计所需的点阵阵列图样,用透明胶片高精度打印的方法制备掩模(Mask)。把正性光刻胶旋涂于SPR金片表面,紫外光通过掩模曝光后,用碱液显影。然后采用选择性化学刻蚀暴露出的金膜,最后用剥离液去掉未曝光的光胶层,从而构建所需的金膜点阵列,点的大小和间距可方便地由掩模来控制。