简介:
本发明是关于一种XRF分析的基体校正系数的计算方法,包括,根据待测物品的化学成分及各成分的质量百分含量,设计样品的化学成分及各成分的质量百分含量,所述的待测物品至少包含待测成分i、和辅助成分k;利用Sherman方程,计算待测成分i在待测物品中的X射线荧光强度Ri和待测成分i在设计样品中的X射线荧光强度Ri′;根据所述的R和R′,计算辅助成分k对待测成分i的基体校正系数αik,所述的设计样品各成分的质量百分含量总和等于所述的待测物品各成分的质量百分含量总和。本发明提供的计算方法得到的基体校正系数更加准确可信。
本发明是关于一种XRF分析的基体校正系数的计算方法,包括,根据待测物品的化学成分及各成分的质量百分含量,设计样品的化学成分及各成分的质量百分含量,所述的待测物品至少包含待测成分i、和辅助成分k;利用Sherman方程,计算待测成分i在待测物品中的X射线荧光强度Ri和待测成分i在设计样品中的X射线荧光强度Ri′;根据所述的R和R′,计算辅助成分k对待测成分i的基体校正系数αik,所述的设计样品各成分的质量百分含量总和等于所述的待测物品各成分的质量百分含量总和。本发明提供的计算方法得到的基体校正系数更加准确可信。