简介:
一种测定一机器系统(2)(尤其是一浮动设备中的机器系统)内运行用料的化学和/或物理特性的方法,其中,用光照射所述运行用料并且对透射所述运行用料或者被所述运行用料反射的光进行光谱分析,根据本发明,所述运行用料受照时至少具有一选自一规定温度范围的温度,优选正好具有一规定温度。在此情况下,即使出现例如浮动设备所遇到的环境温度变化,也能为所述光谱分析提供始终保持稳定的框架条件,从而使分析精度得到改善。
一种测定一机器系统(2)(尤其是一浮动设备中的机器系统)内运行用料的化学和/或物理特性的方法,其中,用光照射所述运行用料并且对透射所述运行用料或者被所述运行用料反射的光进行光谱分析,根据本发明,所述运行用料受照时至少具有一选自一规定温度范围的温度,优选正好具有一规定温度。在此情况下,即使出现例如浮动设备所遇到的环境温度变化,也能为所述光谱分析提供始终保持稳定的框架条件,从而使分析精度得到改善。