简介： 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括：谐振腔；沉积台，设置于谐振腔内，包括基板以及为基板降温的冷却装置，该冷却装置包括冷却水回路，所述冷却水回路上设置有VCR接头。本申请还公开了一种极高真空的控制方法，包括：建立真空腔体的静态压升力曲线，其中，横坐标为时间，纵坐标为压力，并控制：曲线的起始点小于1.0×10‑11Pa；曲线切线斜率小于1.0×10‑8pa/min；真空腔体的总泄露率小于10‑8Pa.l/s。本发明可以有效的解决微波等离子体化学气相沉积装置的泄露，可以明显提供钻石生产的品质。