简介： 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台，一对检测窗口设置于连接反应腔室的一气体传输管道的两侧，在反应腔室启动一清洁程序时，一检测装置通过一对检测窗口检测反应腔室内的气体浓度，一对检测窗口包括一第一检测窗口和一第二检测窗口；保护装置用于将两个检测窗口与气体传输管道内的气体隔离，保护装置包括：一第一隔离阀，设置于第一检测窗口与气体传输管道之间；一第二隔离阀，设置于第二检测窗口与气体传输管道之间。有益效果：使用两个隔离阀可以使两个检测窗口完全隔离反应气体，避免在不执行清洁程序时反应气体附着在检测窗口的表面，提高检测窗口的使用寿命，以及提高清洁的效果。