简介： 本发明提供一种化学铜分析控制系统，包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在化学铜工作缸内的工作液中，电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，多个泵输出线孔分别通过电缆线与多个添加泵连接，每个添加泵均与一添加缸连通，添加缸内装有铜离子溶液，还设有液位传感器，液位传感器与控制主机信号连接，通过控制主机控制添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过铜离子传感器测得铜缸内的铜离子浓度。本发明结构简单紧凑，自动化程度高。