简介:
本发明涉及一种跟踪氧化还原活性物质浓度变化的方法,其中将适当的还原过程或氧化过程电势施加于测量装置的工作电极上。本发明的特征在于,工作电极的电势是脉冲调制的,而且交替产生测量相与驰豫相,测量相和驰豫相的脉冲宽度以适当方式确定。用电化学方法强制浓度梯度迅速弛豫,以使测量可在简单的转换器阵列上进行。实施该方法所用装置的特征是,除了相宜的恒电势器之外,该装置还包括转换器阵列(100、200)。所述转换器阵列(100、200)可由平面金属基体(1)构成,在该基体上置有至少一种柔性绝缘体(2),金属表面与绝缘体表面坚固连结。所述转换器阵列(200)也可包括硅基CMOS结构。
本发明涉及一种跟踪氧化还原活性物质浓度变化的方法,其中将适当的还原过程或氧化过程电势施加于测量装置的工作电极上。本发明的特征在于,工作电极的电势是脉冲调制的,而且交替产生测量相与驰豫相,测量相和驰豫相的脉冲宽度以适当方式确定。用
电化学方法强制浓度梯度迅速弛豫,以使测量可在简单的转换器阵列上进行。实施该方法所用装置的特征是,除了相宜的恒电势器之外,该装置还包括转换器阵列(100、200)。所述转换器阵列(100、200)可由平面金属基体(1)构成,在该基体上置有至少一种柔性绝缘体(2),金属表面与绝缘体表面坚固连结。所述转换器阵列(200)也可包括硅基CMOS结构。