简介:
本发明是关于一种处理含全氟化合物及/或含氢氟烃废气的方法,此方法是将含全氟化合物及/或含氢氟烃废气与铁氧化物触媒进行气固接触,并进行电浆氧化反应,之后再以触媒进行气固接触及氧化反应,以达到分解全氟化合物及/或含氢氟烃的目的。由于本发明可在较先前技术低许多的温度下操作,其能源消耗小且不具着火危险性,因此,非常适合用来去除半导体及光电制造工厂所产生的含全氟化合物的废气。
本发明是关于一种处理含全氟化合物及/或含氢氟烃废气的方法,此方法是将含全氟化合物及/或含氢氟烃废气与铁氧化物触媒进行气固接触,并进行电浆氧化反应,之后再以触媒进行气固接触及氧化反应,以达到分解全氟化合物及/或含氢氟烃的目的。由于本发明可在较先前技术低许多的温度下操作,其能源消耗小且不具着火危险性,因此,非常适合用来去除半导体及光电制造工厂所产生的含全氟化合物的废气。