简介:
本发明提供一种计算机磁头清洗剂,按照重量百分比包括如下组份:增溶剂3~8;非离子型表面活性剂3~10;阴离子型表面活性剂3~10;消泡剂1~5;2,3-二氢十氟戊烷3~10;去离子水余量。本发明为一种水溶性清洗剂,对磁头抛光后表面残留的有机溶剂以及固体颗粒物的清洗效果理想,腐蚀性小,而且便于废弃清洗剂的处理排放,符合环境保护的要求;配方设计合理,制备工艺简单,不需要特殊生产设备,成本较低。
本发明提供一种计算机磁头清洗剂,按照重量百分比包括如下组份:增溶剂3~8;非离子型表面活性剂3~10;阴离子型表面活性剂3~10;消泡剂1~5;2,3-二氢十氟戊烷3~10;去离子水余量。本发明为一种水溶性清洗剂,对磁头抛光后表面残留的有机溶剂以及固体颗粒物的清洗效果理想,腐蚀性小,而且便于废弃清洗剂的处理排放,符合环境保护的要求;配方设计合理,制备工艺简单,不需要特殊生产设备,成本较低。