简介： 本发明提供了一种用于半导体制造的基片处理系统,该系统包括一处理室,和一排气系统;以及一用于提供清洁气体的装置。该排气系统包括一个真空泵,一个真空排气管道,和一个过滤装置,该过滤装置装在真空泵的下游,且位于排气管道内。本发明还提供一种方法,用于消除或减少排气管道中固体残余物的聚集,该方法是这样实现的:将清洁气体引入处理室并进一步引入排气管道;通过真空泵下游和排气管道内的过滤装置来捕获固体残余物;加热过滤装置,以再激活清洁气体,这些气体与被捕获的固体残余物发生反应,将固体残余物转换为气态残余物;以及通过排气管道释放气态残余物。可用原位和分置式等离子体源清洁法与上述方法相结合使用。