简介： 本发明是有关一种宽温低铬酐镀铬添加剂及其 制备，其特征在于由氟化稀土和氟硅酸钠混合组成， 其制备工艺是按一定量的氧化稀土(镨钕富积物)进 行溶解、沉淀、过滤洗涤、反应、研磨、再过滤洗涤、烘 干，按比例1.5～2.3∶1加入氟硅酸钠经混合均匀即 成。本发明电流密度范围为5～30A/dm2，电流效 率高为22％以上，温度范围为17～55℃，镀层一次 合格率达95％以上。降低废水中排铬含量60～ 70％，节水、节电。