简介： 本实用新型公开了一种晶圆清洗抛光装置，包括：清洗抛光机构，所述清洗抛光机构外壁上设置有与其外径相匹配的挡水圈，且清洗抛光机构顶端固定连接有同轴线的隔圈件，并且隔圈件的内壁上水平固定连接有滤网，所述隔圈件的外壁上固定连接有同轴线的承载盘，所述挡水圈外壁的一侧连通有出气管，且出气管的出气端连通有风机。该晶圆清洗抛光装置通过风机可通过出气管将隔圈件内的水分进行抽取，然后水分在重力的作用下可进入到清洗抛光机构下端的收集器内进行收集，这样撑架就可快速风干，接着通过水泵可将废水集中输送到承载盘内，然后可通过废水初步对承载盘进行清理，这样可使废水得到再次利用。