简介： 本发明公开一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，涉及电子工业清洗技术领域。本发明公开的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，具体步骤为：往调和釜中加入所需去离子水，开启搅拌，然后加入无机碱和有机碱，搅拌至溶解；待碱液澄清透明后，将表面活性剂、增溶剂、螯合剂、抗再沉剂依次按照所需比例加入调和釜中，搅拌，然后加入助溶剂直至混合液清澈透明，再加入消泡剂，搅拌均匀。本发明制备的用于硬脆材料晶片的清洗剂与污染物相容性好，操作安全，性能稳定，清洗效率高，使用周期长，能有效提高加工效率。本发明配方中所用到的添加剂均符合电子级别清洗要求，符合国家环保法规所规定的废水配方标准不污染水质和土壤，绿色环保。