本发明涉及
半导体技术领域,且公开了一种半导体废水脱氟处理装置,包括外壳,所述外壳外侧设有处理室;齿轮转动,转动组件同步转动,使转板进行间歇往复转动,引起卡框进行间歇上下移动,下插头远离下插座,上插头与上插座卡接,控制加两个加热器错开运行,有利于活性
氧化铝层的重复使用,加热器运行,对活性氧化铝层进行烘干处理,使活性氧化铝层可得到循环利用,避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果,有效提高废水脱氟处理效果,转板间歇往复转动带动两个卡杆进行间歇上下移动,引起两个限流杆错开挤压处理室分流管,自动控制废水的流向,使其能够不间断的进行脱氟处理操作,从而提高废水处理效率。