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单层氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底

来源：江苏先丰纳米材料科技有限公司
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简介： 货号CAS号编号包装参数1026747440-42-8XF2391片1英寸x1英寸，SiO2/Si基底1026757440-42-8XF2391片1英寸x2英寸，SiO2/Si基底1026767440

产品详细

货号	CAS号	编号	包装	参数
102674	7440-42-8	XF239	1片	1英寸x1英寸，SiO2/Si基底
102675	7440-42-8	XF239	1片	1英寸x2英寸，SiO2/Si基底
102676	7440-42-8	XF239	1片	2英寸x2英寸，SiO2/Si基底

产品名称

中文名称：单层氮化硼薄膜（HBN）

英文名称：Monolayer boron nitridefilm（HBN）

性质

覆盖率：100%

基底：SiO2/Si

晶粒尺寸：>4 um

氧化层：300 nm硅：500um

应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。