单层氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底
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单层氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底
来源:江苏先丰纳米材料科技有限公司
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简介: 货号CAS号编号包装参数1026747440-42-8XF2391片1英寸x1英寸,SiO2/Si基底1026757440-42-8XF2391片1英寸x2英寸,SiO2/Si基底1026767440
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产品名称

中文名称:单层氮化硼薄膜(HBN)

英文名称:Monolayer boron nitridefilm(HBN)

性质

覆盖率:100%

基底:SiO2/Si

晶粒尺寸:>4 um

氧化层:300 nm硅:500um

应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层,以及电子的隧道阻挡层,使其具有广泛的应用,例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。

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