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单层氮化硼薄膜（HBN）铜基

来源：江苏先丰纳米材料科技有限公司
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简介： 货号CAS号编号包装参数1023567440-42-8XF2381片1英寸x1英寸,铜基1023577440-42-8XF2381片2英寸x2英寸,铜基1023587440-42-8XF2381片1英

产品详细

货号	CAS号	编号	包装	参数
102356	7440-42-8	XF238	1 片	1英寸x1英寸,铜基
102357	7440-42-8	XF238	1 片	2英寸x2英寸,铜基
102358	7440-42-8	XF238	1 片	1英寸x2英寸,铜基

产品名称

中文名称：单层氮化硼薄膜（HBN）

英文名称：Monolayer boron nitridefilm（HBN）

性质

覆盖率：100%

基底：Cu

晶粒尺寸：>4 um

应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。

其他信息

常温干燥避光密封保存，保存期限半年。