单层氮化硼薄膜(HBN)铜基
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单层氮化硼薄膜(HBN)铜基
来源:江苏先丰纳米材料科技有限公司
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简介:
货号CAS号编号包装参数1023567440-42-8XF2381片1英寸x1英寸,铜基1023577440-42-8XF2381片2英寸x2英寸,铜基1023587440-42-8XF2381片1英
产品详细
货号
CAS号
编号
包装
参数
102356
7440-42-8
XF238
1 片
1英寸x1英寸,
铜
基
102357
7440-42-8
XF238
1 片
2英寸x2英寸,铜基
102358
7440-42-8
XF238
1 片
1英寸x2英寸,铜基
产品名称
中文名称:单层氮化硼薄膜(HBN)
英文名称:Monolayer boron nitridefilm(HBN)
性质
覆盖率:100%
基底:Cu
晶粒尺寸:>4 um
应用
HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层,以及电子的隧道阻挡层,使其具有广泛的应用,例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
其他信息
常温干燥避光密封保存,保存期限半年。
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标签:单层氮化硼薄膜(HBN)铜基
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