微纳米硅化钽粉技术参数

产品归类	型号	平均粒径（um）	纯度（%）	比表面积 （m2/g）	体积密度（g/cm3）	晶型	颜色
纳米级	CW-TaSi2-001	50nm	99.5	36.23	5.16	立方	灰黑色
微纳级	CW-TaSi2-002	<1.0	99.5	25.12	5.81	立方	灰黑色
超细级	CW-TaSi2-003	1-3um	99.5	16.13	5.94	立方	灰黑色
颗粒级	CW-TaSi2-005	325目	99.5	7.28	6.98	立方	灰 色
加工定制	根据客户需求适当调整产品纯度及粒度

主要特点

微纳米二硅化钽粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，耐高温，抗氧化，硬度高，是一种工程材料。TaSi2=237.12，密度9.14g/cm3，熔点2200℃。应用领域二硅化钽粉主要用于发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。技术支持可以提供微纳米硅化钽粉在航空航天、复合材料、高温结构件中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。包装储存本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。