微纳米硅化钼粉技术参数

产品归类	型号	平均粒径（um）	纯度（%）	比表面积 （m2/g）	体积密度（g/cm3）	晶型	颜色
微纳级	CW-MoSi2-001	<1.0	99.5	24.24	4.21	立方	黑色
超细级	CW-MoSi2-002	1-3um	99.5	17.67	4.56	立方	灰黑色
喷涂级	CW-MoSi2-003	20-40	99.5	4.95	4.87	球形	灰黑色
加工定制	根据客户需求适当调整产品纯度及粒度

主要特点

微纳米二硅化钼粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，是一种工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔点2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量高的一种中间相，具有金属与陶瓷的双重特性。二硅化钼有良好的高温抗氧化性、高温可塑性、导热导电性和流动性，在高温结构陶瓷领域有着应用应用领域二硅化钼主要应用作发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料；二硅化钼作为结构材料用于航空、航天、汽车燃气涡轮机的高温部件。技术支持可以提供微纳米二硅化钼粉在发热元件、高温氧化涂层、复合材料中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。包装储存本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。