SL-CVD是一款PECVD 管式炉系统。该系统包含等离子射频电源，80mm OD1500mm L的管式炉，通道质量流量供气系统和机械泵机组，可用于生长纳米或石墨烯材料。

设备名称
CVD气相沉积炉（2020.11.3——升利实验室审核）

主要特点
· 射频电源可实现等离子增强从而显著降低试验温度。
· 最高温度可达1200℃。
· 双层壳体结构，并带有风冷系统，可有效降低壳体表面温度。
·  内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。
· 开门断电，提高实验安全性。
· 客户可根据需求选购双温区沉积炉。
· 可在温度范围较大的条件下制备材料，如  碳、Zno纳米管或纳米线及单层石墨烯等。

基本参数
· 最高温度: 1200℃（≤30min）  工作温度: 1100℃
· 推荐升温速率:≤10℃/min
· 电压：220V
· 额定功率：3KW
· 炉体开启式设计，以达到对样品快速降温，方便更换炉管

炉管尺寸
· Φ40*1200mm
· Φ60*1500mm
· Φ80*1500mm
· Φ60*1800mm
· Φ80*1800mm
· Φ100*1200mm

真空系统
· 采用TRP-12的双旋真空泵；
· KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵；
· 真空度可达10-2Torr。

质保
· 一年保修，终身技术支持。
· 特别提示：
1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。