氟化镱靶材(YbF3)基本信息
分子式： YbF3
纯度： 99.99%
CAS号： 13760-80-0
摩尔质量： 230.04
密度： 4.01
熔点： 1157 °C
沸点： 2200 °C
溶解性(水)： 不溶于水和稀酸
氟化镱靶材(YbF3)产品概况
氟化镱靶材(YbF₃)是以高纯金属镱(Yb，纯度≥99.99%)与氟化剂为原料，通过真空热压烧结与表面钝化技术制备的
稀土氟化物靶材，化学计量比Yb:F=1:3.00±0.02，密度≥7.12 g/cm³(理论密度≥95%)。其具备极低光学吸收(400-8000 nm波段吸收系数<10⁻⁴ cm⁻¹)、高热稳定性(熔点>1150℃)及优异抗潮解性(湿度>90%环境下无水解)，适配热蒸发、离子束溅射(IBS)等工艺，用于沉积红外增透膜、激光防护层及紫外截止滤光片。产品通过精准氧含量控制(O<100 ppm)、亚微米晶粒细化(晶粒尺寸≤500 nm)及无裂纹致密结构，满足高能激光系统、空间光学器件及半导体光刻设备对低损耗镀膜材料的严苛需求，是高端光学镀膜与特种功能涂层的核心材料。
氟化镱靶材(YbF3)产品应用
氟化镱靶材(YbF₃)凭借其宽谱低损耗、超高激光损伤阈值及卓越环境稳定性，成为高能激光、红外光学与半导体光刻领域的战略级镀膜材料。
高能激光系统：激光谐振腔低损耗反射膜(吸收损耗<5 ppm)。
抗激光损伤防护层(阈值>15 J/cm² @1064 nm)。
红外光学：中波红外(MWIR)窗口增透膜(3-5μm透过率>99%)。
太赫兹波导氟化物涂层(衰减<0.1 dB/cm)。
半导体光刻：EUV光刻机掩模保护膜(13.5 nm波段反射率优化)。
深紫外(DUV)光学元件防污染层。
特种功能镀膜：空间望远镜抗辐射氟化物膜层(质子辐照后透过率下降<2%)。
海洋探测设备防盐雾腐蚀涂层。
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京公网安备 11010702002294号
