1：控制方式

7寸人机界面 手动模式 自动模式 晶控模式（需配膜厚仪）

2：镀膜方式

真空电阻加热式热蒸发镀膜

3：镀膜功能

0-999秒可变换功率 及挡板复位和样品旋转等程序控制

4：最大功率

≤1200W（电压≤12V 电流≤150A)

5: 极限真空

机械泵 ≤1Pa（5分 钟）   分子泵≤5*10^-3Pa（30分钟）

6：挡板类型

电控

7：真空腔室

高鹏硅玻璃罩+铝合金腔体样品台Ф160mm×170mm

8：样品台

快速插拔式 可旋转φ75  （最大可安装φ70样品）

9：样品台转速

0-8转/分钟

10：样品靶材距离

40-70mm（可调节）

11:蒸发温度

≤1800℃

12：蒸发坩埚类型

钨舟 陶瓷坩埚 石英坩埚 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 碳绳等

13：真空测量

电阻真空计（测量范围10E5Pa  1E-1Pa ）

14：预留真空腔室接口

KF40/KF25抽气口  KF16真空计接口Q15放气口 可扩展膜厚测量口

15：产品重量

约16KG

可选配扩展（选配）

①机械真空泵抽速8mm3/h（单设备≤1Pa(5分钟）

②分子泵机组（单设备可抽真空30分钟≤5*10^-3Pa）

③膜厚仪:(厚度范围0-10000A 厚度显示分辨率1A 速率范围0-999.9A 速率显示分辨率0.1A 晶振频率6MHz）

主要配置要求

小型蒸镀仪 KT-Z1650CVD 主机1台 电源线 合格证 说明书 保修卡各一个