碳化硼靶材(B₄C)基本信息
分子式：B₄C
纯度：99.5%
CAS号：12069-32-8
摩尔质量：55.25
密度：2.51 g/mL at 25 °C(lit.)
熔点：2450°C
沸点：3500°C
溶解性(水)：不溶于水和酸。
碳化硼靶材(B₄C)产品概况
碳化硼(B₄C)靶材是一种以高纯度硼碳化合物为原料，通过先进
粉末冶金工艺(如热压烧结HP、热等静压HIP或火花等离子烧结SPS)制备的高性能陶瓷溅射靶材。该靶材具备极高的化学纯度(通常≥99.5%，可定制99.9%及以上核工业级)、优异的致密化程度(高密度、低气孔率，通常 >95%理论密度)、均匀的微观结构(细小且分布均匀的晶粒)及稳定的晶体结构(菱形六面体)。这些特性确保其在磁控溅射(RF, Pulsed DC)、离子束溅射(IBS)等物理气相沉积(PVD)工艺中表现出色：溅射稳定、膜层附着力强、成分均一、耐极端环境性能优异。
核心价值源于 B₄C 的极端物理与核特性在薄膜中的高效体现：
➊ 超硬耐磨特性：
沉积的 B₄C 薄膜拥有超高硬度(~40 GPa，仅次于金刚石和立方氮化硼)，赋予涂层卓越的抗磨损、抗刮擦和抗冲蚀能力。
➋ 高中子吸收截面：
硼-10(¹⁰B)同位素对热中子具有极高吸收截面(3837 barn)，薄膜具备高效中子屏蔽与核控制功能。
➌ 优异化学惰性：
对强酸、强碱及熔融金属(如
铝、
铜)具有优异耐腐蚀性，适用于极端化学环境。
➍ 高温稳定性：
在惰性气氛下可稳定工作至 > 2200°C，保持结构完整性与功能特性。
➎ 轻量化属性：
低密度(2.52 g/cm³)，适合对重量敏感的防护或航空航天应用。
碳化硼靶材(B₄C)产品应用
◉ 核能与核安全：
核反应堆中子吸收层：沉积于燃料棒包壳、控制棒或屏蔽结构表面，作为高效紧凑的中子吸收薄膜屏障，提升核电安全性与小型化潜力。
核废料包容体涂层：用于密封容器内壁，增强中子屏蔽与抗辐射分解性能。
◉ 国防与防护：
轻质装甲强化层：与
碳化硅、
碳纤维等复合，通过溅射沉积实现超硬表面防护薄膜，提升防弹头盔、装甲板抗多发打击能力。
航空航天抗冲蚀层：用于直升机旋翼、发动机部件表面，抵御沙砾与雨滴冲蚀。
◉ 精密工业与工具：
高性能切削工具涂层：作为 TiAlN/DLC 等涂层的替代或复合层，显著延长钻头、铣刀在难加工材料(钛合金、
复合材料)中的寿命。
精密轴承与密封件强化层：在恶劣工况下提供低摩擦、耐磨蚀表面，减少维护频率。
◉ 极端环境器件：
高温热电元件保护层：用于热电厂或深空探测器热电转换器表面，提供抗氧化、抗腐蚀屏蔽。
半导体刻蚀部件抗等离子体层：在刻蚀腔室内壁沉积，抵抗氟基/氯基等离子体腐蚀。
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京公网安备 11010702002294号
