简介： 铬（Chromium, Cr）是一种高硬度、耐腐蚀、耐高温的金属材料，在薄膜沉积领域中具有重要地位。铬靶材常用于电极层、阻挡层、粘附层及光学薄膜的制备，具有良好的附着性和膜层稳定性，是半导体工艺、光学镀膜与功能涂层中的关键基础材料。技术特点高纯度（3N5–4N），薄膜电学、附着性与耐腐蚀性更稳定；硬度高、抗脆裂性能好；膜层附着力强，是常用的粘附层材料；工艺稳定、颗粒脱落率低、膜层均匀致密；支持多种尺寸、厚度与背板结构定制。铬靶材广泛用于：1. 半导体与微电子金属粘附层（如Cr/Au体系）扩散阻挡层电极层及互连结构2. 光学镀膜反射膜（Cr反射率稳定，常用于金属光学镀膜）吸收膜、滤光膜防护膜与结构增强膜3. 机械与表面防护涂层耐磨膜防腐保护层装饰镀膜（如黑铬膜）4. 科研领域Co-Cr、Ni-Cr 合金薄膜研究功能性复合膜结构设计电子束镀膜与PVD涂层系统