高纯度大直径科研用铬靶
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高纯度大直径科研用铬靶
来源：北京中金研新材料科技有限公司
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简介： 铬（Chromium, Cr）是一种高硬度、耐腐蚀、耐高温的金属材料，在薄膜沉积领域中具有重要地位。铬靶材常用于电极层、阻挡层、粘附层及光学薄膜的制备，具有良好的附着性和膜层稳定性，是半导体工艺、光学镀膜与功能涂层中的关键基础材料。技术特点高纯度（3N5–4N），薄膜电学、附着性与耐腐蚀性更稳定；硬度高、抗脆裂性能好；膜层附着力强，是常用的粘附层材料；工艺稳定、颗粒脱落率低、膜层均匀致密；支持多种尺寸、厚度与背板结构定制。
工作原理 技术参数 选型原则 应用案例 设备结构
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